北美智權報自本刊期推出《東協工業設計實質審查的共通指南》系列文章，將分6刊期分別介紹其定義和保護標的，包括概論、共通的目的、東協成員國法規、工業設計之實施、產業利用性以及法定不予註冊項目，本期先從概論開始。

「東協經濟共同體」(以下簡稱AEC)於2015年12月31日成立，並在現有東協貨品及服務貿易及投資自由化之基礎上，進一步整合以「單一市場」為主之經濟共同體，以2025年前達到貨品、服務、投資、資金與技術勞工的5大自由流通，進而促使AEC成為一個全球供應鏈的生產基地為目標。

對於在東南亞開展業務的中小企業來說，保護其智慧財產權至關重要，因為智慧財產權戰略不力往往會導致該地區的商業努力結束，但在東南亞保護智慧財產權的方式往往被忽視。

在歐盟—東協智慧財產權保護項目（ECAP III）的背景下，東協成員國制定了工業設計審查共通指南（common guideline for the substantive examination of industrial designs，以下簡稱「共通指南」），本系列文章將介紹「東協工業設計實質審查共通指南」的設計定義與保護要件，提供給國內廠商及專利業界做為參考。

工業設計權，在某些司法管轄區也稱為外觀設計專利，是一種專有權，它保護的設計因其審美吸引力而賦予所有者相對於競爭對手的競爭優勢。工業設計可以採用二維或三維形狀、配置或圖案的形式。顯著的例子包括 iPod、可口可樂瓶的形狀、電腦圖像，甚至是智慧型手機應用程式的介面設計。

為獲得工業設計保護，中小型企業必須在其預期開展業務活動的所有國家/地區提交設計註冊申請，因為外觀設計權與其他智慧財產權一樣具有地域性。與專利一樣，對工業權利的保護也有一定期限，並且期限因國家/地區而異。一般來說，保護至少持續10 年。此外，工業產權保護可以成為企業的資產。產品或服務的成功通常受其視覺外觀的影響，其中審美情趣是影響消費者決策的關鍵因素之一。因此，中小企業製定與相關產品或服務的商業戰略相匹配的保護戰略非常重要。而且，註冊工業設計的所有人被授予禁止他人為商業目的使用或應用該設計的權利。 根據不同國家/地區的具體立法，其他方（例如獨家被許可人）可以被授予對第三方實施這種合法壟斷的權利。 例如，獨家被許可人可以對處理設計的未授權方提起法律訴訟，而無需註冊所有者的批准。

東協制定共通指南的背景

東協成員國工業設計審查共通指南是在歐盟—東協智慧財產權保護項目（ECAP III）的背景下制定的。 該項目於 2009 年獲得歐盟和東協的批准，以支持東協經濟共同體藍圖的目標，以及2011-2015 年東協智慧財產權行動計劃中確定的戰略目標。

ECAP III 第二階段的總體目標是進一步將東協成員國融入全球經濟和世界貿易體系，以促進該地區的經濟增長和減少貧困。該項目的具體目標是加強東協區域一體化，進一步升級和協調東協地區智慧財產權的創造、保護、管理和執法制度。根據國際智慧財產權標準和最佳實務，進一步升級和協調東協地區智慧財產權的創造、保護、管理和執法制度，以及確認東協 2011-2015 年智慧財產權行動計劃。

前歐盟內部市場協調辦公室 (OHIM)，目前由歐盟智慧財產權局 (EUIPO) 接替，受託在 2013-2015 年期間實施 ECAP III 第二階段。2015年3月 12日，在汶萊達魯薩蘭國的斯里巴加灣市，ECAP 項目指導委員會 (PSC) 批准了項目 2015 年年度工作計劃 (AWP)。PSC 決定在該工作計劃中組織一項關鍵活動「旨在 提高東協智慧財產權局在工業設計審查和註冊方面所開展工作的質量、一致性和透明度」。工作計劃明確指出，這一結果將通過至制定可供有關的東協智慧財產權局應用的「共通指南」來實現。所有東協成員國都已頒布或正在通過立法——以專門法律的形式或作為更廣泛法律中的具體章節或條款——以允許註冊工業設計。 在其中一些國家，這些法律得到了其他較低級別的規範的補充，包括實施條例和附屬行政決定。

2015年6月2日至5日，在馬來西亞蘭卡威舉行的「東協外觀設計諮詢會議和制定外觀設計審查共通指南」上，向東協成員國的智慧財產權當局提交了這些共通指南的初稿。這共通指南的起草考慮了東協成員國與工業設計申請審查相關的法律、法規和現有判例，也考慮了一些成員國主管局用來審查工業設計註冊申請的內部指南和手冊。同時，指南也反映了在蘭卡威會議上提出的建議，以及東協成員國當局在會後提出的意見和建議。共通指南還考慮了歐盟標準和最佳實務，特別是EUIPO 註冊設計審查指南——2015年註冊設計申請審查和 2015 年設計無效申請審查。

「東協工業設計實質審查共通指南」內容涵蓋「設計定義」、「保護要件」、「設計的呈現方式」及「指定產品及特殊申請」，《北美智權報》將陸續以系列文章介紹給國內廠商及專利業界做為參考。

【本文僅反映專家作者意見，不代表本報立場。】

作者： 葉雪美（Sherry H.M. Yeh） 學歷： 世新大學法律研究所法學碩士 國立成功大學工業設計系學士 經歷： 科技部 研發成果管理審查會委員 經濟部智慧財產局專利一組 簡任專利高級審查官 中央標準局新式樣專利主任審查員（75-76） 中央標準局專利審查委員（80-89） 台灣科技大學 專利所 兼任助理教授 著作： 《美國設計專利侵害認定相關問題研究－兼論我國新式樣專利侵害認定問題》，2004。 《設計專利申請實務－台灣及美國專利申請策略》，元照出版公司，2008。

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