RD 專欄
《RD研發創新系列之三》
創新與專利 – 讓瀕臨倒閉的公司敗部復活

劉俊夫╱北美智權 專利工程研究組

2013.01.03
         

C公司是台灣上櫃的IC設計公司,它在創業初期經歷過產品定位錯誤、公司減資、經營團隊改組等眾多問題,甚至瀕臨倒閉的困境,但最後它卻能夠反敗為勝,在環境光源感測 (ALS)晶片領域中佔有舉足輕重的地位。這讓我們不禁要問,究竟它是怎麼辦到的?

近來由於智慧型手機等可攜式產品的風行,使用者對該等產品能夠提供足夠的電池續航力,以支援更多功能與更長使用時間的需求也是愈來愈高。而環境光源感測元件(Ambient Light Sensor,以下簡稱ALS),就是藉由模擬人眼的特性,將感測到的外界環境光源強度轉換為電子訊號,提供系統作為相對調整顯示面板所需之背光亮度之依據。智慧手機裝了這ALS元件後,除了能降低顯示器的耗電量,增長手機的可使用時間外,同時也能減輕人眼在強光下或光線不足的高反差環境中閱讀手機顯示器上圖像及文字的疲累,故ALS已逐漸成為智慧型手機的必要關鍵零組件。

在眾多ALS晶片的設計廠商中,我們這一期專欄要介紹一家員工人數只有50餘人的小型公司,本文且稱之為「C公司」。C公司是台灣上櫃的IC設計公司,它在創業初期經歷過產品定位錯誤、公司減資、經營團隊改組等眾多問題,甚至瀕臨倒閉的困境,但最後它卻能夠反敗為勝,在ALS晶片領域中佔有舉足輕重的地位。這讓我們不禁要問,究竟它是怎麼辦到的?

以專利保護核心技術  提高競爭者進入門檻

在詳細檢視此公司之發展歷程後,我們可以發現,於2004年間,C公司仍處於營運不佳的狀態時,在公司新任CEO的卓越領導下,其研發團隊勇於邁出研發轉型的步伐,從自身原有的光學技術研發實力出發,跳離原本熟悉的光碟機相關產品領域,投入全新的光感測產品領域,秉持不斷研發創新之精神,最後在2005年年中提出奠定公司未來發展基礎的CMOS光學濾波之關鍵技術,並申請了多國專利。

該專利技術提出了有別於傳統薄膜濾波方式之光學濾波方法,採用了與CMOS相容之後段製程,在晶片上製造Fabry-Perot干涉儀之結構,以光學干涉原理達到帶通濾波器( band-pass filter ) 的功能。由於製程簡單、性能優異,隨後C公司之晶片產品在其專利的保護下順利進軍ALS市場,且獲得國際筆記型大廠的認證採用;並於2006年初順利進入量產,2007年進一步獲得大陸及台灣手機大廠認證採用。

此外,同一專利技術亦可應用於C公司之距離感測晶片及手機紫外線感測器之設計等。亦即藉由此專利技術來讀取外在環境之紅外線成份,能精準感測人體等物體的靠近,可應用於鍵盤等的背光或螢幕之自動顯示功能等;而藉由此專利技術來讀取外在環境之紫外線強度,則可提醒手機使用者須做好防曬之準備等。藉由將該專利技術發揚光大,應用於多種相關產品,更深化與擴大其專利布局,C公司的業績也因此起死回生,扶搖直上(圖1),最終成為光源感測元件市場的一方之霸。

圖1. C公司之歷年營收/EPS圖

「他山之石,可以攻錯」,我們觀察成功企業的發展軌跡可知其成功關鍵並引為借鏡,順利邁向成功之路。由C公司CEO之發言:「我們不抄別人的技術,自己研發,一路上都申請專利,就算現在出貨量越來越大,競爭者已很難進入這個領域。」可知,這是一家十分重視專利保護的公司,專利是其用來擊退競爭對手,建立進入市場障礙,並鞏固市場的利器。該公司的產品是以最初的關鍵創新技術為核心而逐步向外拓展產品及市場,其專利布局不但深入而且有計畫的擴大,由於其關鍵技術被專利完善保護,構成進入障礙,導致競爭對手不敢做雷同產品,它進而靠著自身技術與產品的優異性能在市場上脫穎而出。

即使面對大廠之競爭,由於其有專利權之保護,具有市場區隔作用,它仍能以小搏大佔據一方市場。此外,由C公司之公開說明書亦可得知其對專利資訊之重視程度高於一般公司。依其公開說明書所述(圖2),C公司對專利資料的應用如下:首先,在產品開發前制定規格時,即要求研發人員將有侵權疑慮的技術規格列出,並進行先前技術之搜尋,如此既可避免侵犯他人專利又可了解目前技術之發展狀態,可謂一舉兩得。此外,針對搜尋到已超過有效期限之過期專利,則視情況而定運用於其開發之產品上。由此可推知,專利資料庫應為C公司研發人員之重要技術資訊來源之一,而非僅依賴論文或期刊而已。最後,C公司會視需要將產品採用之技術予以申請專利來保護。基本上,C公司應用專利於研發創新之方式與北美智權一向倡導之「熟悉專利、活用專利、創造專利」之研發三部曲不謀而合。

圖2. C公司之公開說明書截圖

在台灣科技產業轉型的關鍵時刻,研發創新是企業開創新局與維持市場的唯一利器。由上述之成功企業案例可知,善用專利除了可擊退對手、保護市場外,亦可強化企業之研發能力與構成專利保護傘。因此,企業在培訓研發人員專業技能時,正確專利知識之建立乃是不可或缺之前提要件。最後,筆者再次強調研發人員自身必須熟悉專利,然後知道如何活用專利,最後還要能創造專利,這樣才能與企業攜手一起邁向成功之路。

 

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